Industri Mikroelektronika

Bahan kimia elektronik:Juga dikenal sebagai bahan kimia elektronik. Secara umum mengacu pada penggunaan bahan kimia khusus dan bahan kimia dalam industri elektronik, misalnya: komponen elektronik, papan sirkuit tercetak, semua jenis bahan kimia dan material yang digunakan dalam pengemasan & produksi produk industri dan konsumen. Bahan-bahan ini dapat dibagi menjadi beberapa kategori berdasarkan aplikasinya: papan dasar, photoresist, bahan kimia pelapisan listrik, bahan enkapsulasi, reagen kemurnian tinggi, gas khusus, pelarut, pembersih, zat pendoping sebelum pembersihan, masker solder, asam dan kaustik, perekat khusus elektronik dan bahan pembantu, dll. Bahan kimia elektronik sangat beragam, memiliki persyaratan kualitas tinggi, dosis kecil, persyaratan kebersihan lingkungan yang tinggi, peningkatan produk yang cepat, arus masuk bersih yang besar, nilai tambah yang tinggi, dll. Karakteristik tersebut semakin jelas seiring dengan perkembangan teknologi permesinan mikro.

Tujuan penyaringan:

untuk menghilangkan partikel dan kotoran koloid;

Persyaratan filtrasi:

1. Karena cairan filtrasi memiliki viskositas tinggi, wadah filter biasanya harus mampu menahan tekanan tinggi dan kekuatan mekanis.

2. Bahan filter harus memiliki kompatibilitas yang baik;

3. Efisiensi penyaringan yang baik dalam menghilangkan partikel dan kotoran koloid.

Konfigurasi filtrasi:

Papan sirkuit PCB juga disebut sebagai papan sirkuit tercetak, yang menyediakan koneksi listrik pada komponen elektronik. Berdasarkan lapisan papan sirkuit, dapat dibagi menjadi panel tunggal, panel ganda, papan empat lapis, papan enam lapis, dan papan sirkuit multi-lapisan lainnya.

Tujuan penyaringan:

untuk menghilangkan partikel dan kotoran koloid dalam air atau cairan;

Persyaratan filtrasi:

1. Laju aliran tinggi, kekuatan mekanik tinggi, masa pakai lama.

2. Efisiensi penyaringan yang sangat baik.

Konfigurasi filtrasi:

Prosedur Penyaringan:

CMP, singkatan dari Chemical Mechanical Polishing (Pemolesan Mekanik Kimia). Peralatan dan bahan habis pakai yang digunakan dalam teknologi CMP meliputi: mesin pemoles, pasta pemoles, bantalan pemoles, peralatan pembersihan pasca-CMP, peralatan deteksi titik akhir pemolesan dan kontrol proses, peralatan pengolahan dan pengujian limbah, dll.

Larutan pemoles CMP adalah jenis produk pemoles logam dengan kemurnian tinggi dan ion rendah yang diproses secara khusus menggunakan bahan baku bubuk silikon dengan kemurnian tinggi. Produk ini banyak digunakan dalam pemolesan planarisasi tinggi skala nano pada berbagai material.

Tujuan penyaringan:

untuk menghilangkan partikel dan kotoran koloid;

Persyaratan filtrasi:

1. Kandungan zat terlarut rendah dari media filter, tidak ada kehilangan media.

2. Kemampuan yang baik dalam menghilangkan kotoran, masa pakai yang lama.

3. Laju aliran tinggi, kekuatan mekanik tinggi

Konfigurasi filtrasi:

Prosedur Penyaringan: